相對于本線low E玻璃而音，在線LowE政確所要求的技術性較高，主要體現在以下幾個方面:

　?、馘兡で膀岓w配方的研究

　　劑的配比。應根據Low~E玻璃的性能指標，確定有機錫化合物、有機硅化合物及各種助。

　?、诟缮嫔目刂芁owE玻璃膜層為摻雜的二氧化錫，折射率較高(1.8左右)， 因此易產生干涉條紋引起彩虹。所以應在Low-E膜層與玻璃之間加一層光學過渡層， 以便消除內反射引起的彩虹。

　　③膜厚度的控制

　　Low-E膜層太薄，達不到紅外反射率、輻射率、表面電阻達不到要求;而膜層太厚時，紅外反射、表面電阻、輻射率的指標很好，但可見光透過率、霧度的指標不好，因此應合理選擇膜層厚度，同時，由于Low-E玻璃的底膜、頂膜性能不一樣，故厚度需適當調節。

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　　在鍍膜過程中，極易出現膜層不均勻而影響產品質量的問題，主要是粉末液滴相對于物料蒸氣的顆粒要大得多，而且物料的性質決定了其鍍膜結構，而氣體就可以采取多層料，多層排廢的辦法，使多層鍍膜成功解決了膜層均勻性問題。

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　　Low-E玻璃的膜層是氧化物形成的薄膜，在鍍膜中要引人氧氣參加反應，對于錫槽中介人氧氣是極其有害的，一旦氧氣泄漏到錫槽中將產生不可估計的損失，為避免這種情況，應在鍍膜器上設計專用的氣幕，從而避免氧氣的泄漏。